AVP IBE System
- 廣泛適用所有材料刻蝕,包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
- 成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運行的薄膜刻蝕系統(tǒng)
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復性
- 廣泛適用所有材料刻蝕,包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
- 成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運行的薄膜刻蝕系統(tǒng)
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復性
- 純物理刻蝕,采用惰性氣體為工藝氣體,環(huán)保、無污染,應(yīng)用廣泛
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